①新款升級為采用平場消色差光學(xué)系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干擾成像光線，從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調(diào)的低位操作，使用更舒適

①新款升級為采用平場消色差光學(xué)系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干擾成像光線，從而使升級款成像更清晰、視場襯度更好。②工作臺、光強與粗微調(diào)的低位操作，提高了使用的舒…

廣泛應(yīng)用于應(yīng)用于教學(xué)科研金相分析、半導(dǎo)體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。也可應(yīng)用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫(yī)學(xué)研究地質(zhì)研究等。是科研、教學(xué)、生產(chǎn)的…

廣泛應(yīng)用于應(yīng)用于教學(xué)科研金相分析、半導(dǎo)體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。也可應(yīng)用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫(yī)學(xué)研究地質(zhì)研究等。是科研、教學(xué)、生產(chǎn)的…

在整個光學(xué)系統(tǒng)內(nèi),對涉及成像質(zhì)量的所有組件高級配置,采用先進的無限遠雙重色差校正光學(xué)技術(shù);適用于金屬鋼鐵,化工材料行業(yè)科研,質(zhì)檢和質(zhì)控部門等研究，反射光可實現(xiàn)明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能，透射光可實…

適用于金屬鋼鐵,化工材料行業(yè)科研,質(zhì)檢和質(zhì)控部門等研究，反射光可實現(xiàn)明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能，透射光可實現(xiàn)明場,暗場,偏光,微分干涉觀察功能，可接CCD相機配合圖像分析軟件進行材料分析。

全新研發(fā)豪華配置12XB-PC，搭配U-DICR微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉(zhuǎn)化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現(xiàn)出來，如LCD導(dǎo)電粒子，精密磁盤表面劃痕等。

4XC對于外形不規(guī)則或較大的試樣也可進行顯微鏡觀察，倒置式的儀器設(shè)計，操作時試樣觀察表面向下，并與工作臺面重合，而對試樣的高度和平行度無要求，適合于外形不規(guī)則或較大的試樣。

WF10X（Φ22）大視野目鏡，平場無限遠系統(tǒng)金相物鏡。①采用了反射和透射兩種照明形式，并配有偏光裝置。②在反射光照明下可進行明暗場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明場觀察。③可選配攝影裝置…

作為高級科研型金相顯微鏡，是針對半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)開發(fā)的，可用來鑒別和分析各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)，可廣泛應(yīng)用在工廠或?qū)嶒炇疫M行鑄件質(zhì)量的鑒定、原材料的檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼稹?/p>

便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源，可以很方便的用于現(xiàn)場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)可廣泛的應(yīng)用在工廠，實驗室進行鑄件質(zhì)量的鑒定，原材料檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼鸾M織的研究分析等工作，也可…

便攜式金相顯微鏡由于自帶垂直照明光源，可以很方便的用于現(xiàn)場或無法制作試樣時鑒別各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)可廣泛的應(yīng)用在工廠，實驗室進行鑄件質(zhì)量的鑒定，原…

4XB金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)，可廣泛應(yīng)用在工廠或?qū)嶒炇疫M行鑄件質(zhì)量的鑒定，原材料的檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼鹣嘟M織的研究分析等。

4XI金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)，可廣泛應(yīng)用在工廠或?qū)嶒炇疫M行鑄件質(zhì)量的鑒定，原材料的檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼鹣嘟M織的研究分析等。

正置金相顯微鏡具有透、反二用功能，可作為金相、生物二用顯微鏡，用于觀察金屬、硅片等反射標本的表面結(jié)構(gòu)。可在工礦實驗室進行金屬材料質(zhì)量檢驗，金屬零件處理后的金相組織分析

正置金相顯微鏡具有透、反二用功能，可作為金相、生物二用顯微鏡，用于觀察金屬、硅片等反射標本的表面結(jié)構(gòu)�？稍诠さV實驗室進行金屬材料質(zhì)量檢驗，金屬零件處理后的金相組織分析

正置(明暗場)芯片檢查顯微鏡廣泛的應(yīng)用于透明，半透明或不透明物質(zhì)，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡，都能有很好的成像效果。

產(chǎn)品用途大平臺檢測顯微鏡是專為IT行業(yè)大面積集成電路，晶片的質(zhì)量檢測而設(shè)計開發(fā)制造的，主體為正置式，三目鏡筒，比傳統(tǒng)的顯微鏡更適合于觀察。適用于電子、機械、化工、科研、院校等部門，以及金相技術(shù)檢驗、失效…

102XB工業(yè)金相顯微鏡是針對半導(dǎo)體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷…

9XB正置金相顯微鏡屬中型金相顯微鏡。本儀器造型新穎、性能良好、使用方便可靠，可供工廠、高等院校、科研機構(gòu)及電子工業(yè)部門作金相、礦相、晶體、微電子等方面的試驗與分析研究之用。